Российские химики создали аналог запрещенного импортного материала для производства печатных плат

В России создали первый отечественный состав для удаления фоторезиста — ключевого материала при производстве печатных плат. Разработка принадлежит Центру научных разработок в Республике Марий Эл. Новый раствор уже используют не только на собственном производстве, но и поставляют другим предприятиям электронной промышленности, сообщает корреспондент Информационного агентства МАНГАЗЕЯ.

Фоторезист — это светочувствительное покрытие, без которого невозможно создание современных микросхем. После введения санкций российские производители столкнулись с дефицитом таких материалов. Разработанный состав полностью состоит из отечественных компонентов и позволяет продолжить выпуск электроники без зависимости от импорта.

Глава Республики Марий Эл Юрий Зайцев посетил предприятие, где производят новый раствор. Он отметил важность разработки для технологической независимости страны. По его словам, такие проекты демонстрируют способность российских предприятий оперативно решать критические задачи промышленности.

Помимо состава для удаления фоторезиста, в центре разрабатывают еще несколько типов химических растворов для производства печатных плат. Сейчас проходят испытания комплексов для подготовки поверхностей и металлизации отверстий. Как пояснил руководитель R&D-центра Андрей Алкаев, для полного импортозамещения необходимо создать 20 технологических процессов. На сегодня уже готовы 11 решений, пять из которых внедрены в производство.

Для дальнейшего развития направления предприятие сотрудничает с МарГУ — единственным в России вузом, готовящим специалистов по производству печатных плат. На его базе работает научно-исследовательская лаборатория, где разрабатывают новые материалы и технологии для электронной промышленности.